據報導，SK 海力士 (000660-KR) 在該公司位於中國無錫的記憶體半導體工廠導入了 DUV 光刻設備。市場認為，面對中國反壟斷調查，許多南韓廠引入高科技設備以維持與北京當局的關係，儘管市場預測半導體產業周期將在 2019 年陷入低迷。
SK 海力士上個月在江蘇省的無錫工廠舉行了儀式，並發表將用於 DRAM 生產的 DUV 設備。新設備是來自荷蘭半導體設備公司 ASML 的「NXT2000i」。一台的價格從數千萬美元到數億美元不等，並且是首次在中國推出。新設備的推出可能表明 SK 海力士已經開始準備在無錫工廠擴建後建立微型製造系統。
DUV 不如應用於利川 M16 工廠的極紫外光 (EUV) 來的先進。然而，ASML 表示，當 NXT2000i 與最先進的 EUV 設備 NXE3400B 一起使用時，DUV 設備可以產生協同作用，同時有助於在曝光過程中降低錯誤率。市場認為，SK 海力士未來也有意在無錫工廠導入 EUV 設備。
「目前，EUV 設備主要用於系統半導體，」SK 海力士一名主管表示。 「在無錫使用 EUV 設備進行記憶體半導體生產還為時過早。」
有分析師表示，SK 海力士決定在中國無錫廠導入 DUV 設備，是考量到與中國當局的關係，北京政府已對外國晶片製造商，包含三星電子 (005930-KR)、SK 海力士等，展開反壟斷調查。
中國政府去年 11 月表示：「我們在三星電子、SK 海力士和美光 (MU-US) 的反壟斷調查方面取得了進展。」根據中國政府的決定，最多可能處以高達 80 億美元的罰款。
對於來自中國的反壟斷調查，三星電子也關閉該公司在天津的智慧手機工廠，同時三星 SDI 和三星電機也加大了對中國的投資，以保持與中國當局的良好關係。
