將採用EUV生產記憶體？ 美光：目前沒有計畫

美國記憶體大廠美光 (Micron) 企業副總裁暨台灣美光董事長徐國晉今 (7) 日表示，美光在台 A3 廠進度符合預期，第四季將完工；對於是否會採用 EUV(極紫外光) 生產記憶體，他則回應，目前沒有計畫，現有技術也可達到一樣的效果。

美光在全球共 13 個製造廠區，已成功將智慧製造導入新加坡與台灣等廠區，主要以前段晶圓製造為主，目前也積極導入後段封測廠，台灣後段封測廠已達到高度自動化生產。

美光目前在台灣有 2 座晶圓廠，主要生產 DRAM，台中有後段封測廠及高階封裝研發。對於 A3 廠建廠進度，徐國晉表示，雖然今年受疫情影響，但建廠計畫仍順利進行，也透過 AR 與 VR 技術，以遠距專業支援，建廠符合進度，預計第四季完工。

美光目前在台灣製程技術中，最先進的是 1z 奈米，A3 廠導入 1α奈米製程後，將成為其在台最先進的 DRAM 製程技術；徐國晉也說，未來在台灣將提供 1α、1y、1z 等三種製程技術，不會因導入 1α奈米製程就淘汰 1y。

由於三星可能在明年導入 EUV(極紫外光) 技術生產記憶體，外界關注美光是否也會跟進，對此，徐國晉表示，目前沒有計畫採用 EUV，以現有浸潤式微影設備配合其他製程，可達到一樣的效果。