材料分析廠汎銓 (6830-TW) 今 (23) 日宣布，取得「導電膠」與「原子層導電膜」兩個專利新工法，加上先前已取得的「低溫原子層鍍膜」專利，已建構三大材料分析專利，築起先進製程材料分析競爭力的高牆。
汎銓表示，隨著電晶體尺寸達奈米等級，材料分析的技術難度、精準度要求日益增加，由於過去 1 奈米的損傷，並不影響製程判讀，但隨著製程邁入 2 奈米，些微量測差距都可能導致分析失準，也讓產業進入門檻提高，如何達到無損傷分析，成為材料分析業界面對的共同課題。
汎銓多年來致力於降低分析誤差，如何在分析過程中保護目標，並在取樣過程中呈現樣品最真實原貌，以保留微小製程差異，公司也超前佈署研發出各項分析工法，並透過取得專利，建構競爭城牆。
汎銓進一步表示，公司所開發的「低溫原子層鍍膜」專利，對敏感材料，包括 EUV 光阻、LK 材料等，皆有很好的保護效果，有助提高分析的精準度，此低溫原子層鍍膜系統，能夠製備最嚴苛的 TEM(穿透式電子顯微鏡) 樣品，甚至在最脆弱的光阻或高分子樣品上得到驗證。
再者，材料分析仰賴的高解析度電子顯微鏡，常因電荷累積而產生誤差，汎銓也開發出 2 個專利新工法來應對，「導電膠」與「原子層導電膜」成功有效將電子顯微鏡中多餘的電荷導出試片、降低損傷，對於新一代含金屬的 EUV 光阻或是其他能量敏感材料，也能發揮其強大的保護力，目前已應用在最先進的製程上。
