三星李在鎔訪ASML取得額外EUV設備 追趕台積電

據外媒報導，三星電子副會長李在鎔此次歐洲行，到荷蘭艾司摩爾 (ASML) 總部拜訪執行長 Peter Wennink ，並取得額外的極紫外光 (EUV) 微影設備；市場認為，EUV 設備對下一代半導體生產至關重要，三星積極確保穩定供應，要在先進製程上追趕台積電 (2330-TW)(TSM-US)，重奪龍頭寶座。

南韓媒體《BusinessKorea》報導，三星電子 15 日表示，李在鎔於當地時間 6 月 14 日，會見 Peter Wennink 與艾司摩爾技術長 Martin van den Brink 等高層。

三星電子表示，雙方就未來半導體技術、半導體市場前景、EUV 微影設備供應及中長期業務發展進行討論，不過，三星並未透露所取得額外 EUV 設備的相關細節。

艾司摩爾每年生產約 40 台 EUV 設備，2020 年出貨 31 台，2021 年 42 台，今年原訂生產約 50 台，但受零組件短缺而拖累進度。分析師預估，三星今年可取得 18 台 EUV 設備，高於去年的 15 台及 2020 年的 8 台。

隨著台積電、三星及英特爾 (INTC-US) 先進製程大戰開打，EUV 需求大增，下世代 High-NA EUV 設備精密度更高、設計零件更多，估計每台要價 4 億美元。去年第四季艾司摩爾在手訂單有 5 台，今年初英特爾也下訂，預計 2025 年交貨。

李在鎔此行與拜訪 Peter Wennink 前，也與荷蘭總理 Mark Rutte 會面，討論展開合作，強化半導體晶圓代工能力，探討如何解決全球半導體供應鏈問題，並要求 Rutte 提供支援，確保艾司摩爾能穩定供應 EUV 微影設備。