彭博報導，美國和荷蘭本月將舉行新一輪對談，以限制中國取得先進晶片技術。華府將升高壓力，要求荷蘭禁止艾司摩爾 (ASML) 繼續供貨給中國，包括「浸潤式微影」設備 (immersion lithography，先進程度僅次於極紫外光 EUV 設備)。
知情人士透露，資深美國國安會官員 Tarun Chhabra 和商務部工業與安全事務次長艾斯特維茲 (Alan Estevez) 即將訪荷，討論擴大出口管制。
據說美國持續施壓荷蘭禁止 ASML 出售多種晶片設備給中國，已有一段時間，儘管美方不認為新一輪會談就能達成結果。美國認為，這次會談的性質比較偏向雙邊諮詢，兩方的討論將觸及美荷科技合作的其他議題。
美國國安會、荷蘭外國貿易部和荷蘭的開發合作機構都拒絕回應。
ASML 已經不再對中國供應先進的極紫外光 (EUV) 設備供應，但美國希望禁止範圍可以延伸到更成熟的技術。
最新發展凸顯拜登政府持續說服盟國遵守自己的出口管制，並確保中國軍方無法取得最先進的技術。ASML 是全球 5500 億美元晶片業的關鍵，製造最先進晶片生產過程中必要的設備，美國若希望管制生效，沒有 ASML 配合辦不到。
全球晶片設備由荷蘭 ASML(ASML-US)、日本東京威力科創 (Tokyo Elecrtron)，以及三家美商應材 (AMAT-US)、科磊 (KLAC-US)、科林研發 (LRCX-US) 主導。
上述公司都遵守美國規定，管制販售到中國的晶片設備，儘管比起美商，非美國公司與中國經商往來較自由一些。例如，荷蘭政府雖然禁止 ASML 把最先進的 EUV 設備賣到中國，但該公司仍能向中國客戶販賣其他商品，受到美國出口管制的影響也較小。
美國官員曾表示，如果盟國不響應，新一輪貿易管制的效力將隨時間過去而減弱。美國多次要求 ASML 停止向中國販售「浸潤式微影」設備 。
美國商務部的艾斯特維茲上周曾說，他預期將和全球盟國達成協議，在短期內管制對中國的晶片設備出口。
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