應材發表最新工具 可減少晶圓光刻過程成本

矽谷晶片設備製造商應用材料公司 (AMAT-US) 周二 (28 日) 表示已開始銷售一種新工具，可以降低光刻的工藝成本。

光刻利用極細光線在晶圓上印刷圖案，晶圓是用於晶片製造的閃亮圓盤。每片晶圓都須數十次的印刷，每次都要歷經一個複雜的過程，沉浸材料，測量以確保圖案被正確印刷，然後蝕刻材料以製造晶體管和其他物品，最後清洗晶圓以重新開始。

隨著圖案變得越來越小，已達光學物理的極限，需要額外的技巧來滿足需求。荷蘭工具製造商 ASML (ASML-US) 的最新光刻工具即為代表，稱為 EUV，代表極紫外光，也就是所使用的光線波長。

技巧之一是將一種模式重複兩次。

應材的新工具稱為 Centura Sculpta，讓第一個圖案只須照射一次光就能刻出最終圖案。

開發該產品的團隊負責人謝爾曼 (Steven Sherman) 向《路透》解釋，「我們其實是創造了一種等離子體，透過靜電將其塑造成所需的帶狀束。」「再以一定角度將其引導至晶圓，之後再非常精確地以一定的精度去除材料，以改變晶圓上圖案的形狀。」

他說，即使只是消除一個光刻周期也可以省下不少資金、能源和水。根據估計，每次在光刻工藝中使用 Centura Sculpta，晶片製造商可以為每月可處理 10 萬片晶圓的製造設施節省約 2.5 億美元的資本成本。

應用材料公司在聲明中引述晶片製造商英特爾 (INTC-US) 的話說，它在「Sculpta 優化」方面密切合作，並將使用該技術。它拒絕透露其他客戶的名字。