荷蘭夏季前頒布半導體設備出口新規定 影響ASML部分DUV設備

荷蘭政府周三 (8 日) 表示,計劃對晶片製造設備出口實施新規定以保障國家安全,將在夏季以前公布內容,這代表荷蘭將加入美國遏制對中科技出口的行列,艾司摩爾 (ASML-US) 至少一部分的深紫外光 (DUV) 曝光微影系統預料受到影響。

荷蘭外國貿易和發展合作部部長 Liesje Schreinemacher,在致國會議員信中概略描述研議中的半導體出口限制,她說:「在科技發展和地緣政治背景下,荷蘭政府認為有必要為了國家和國際安全,把現有的出口管制措施延伸到特定的半導體生產設備上。」

信中透露,將在夏季以前宣布管制措施。Schreinemacher 表示,荷蘭政府將盡可能以謹慎、精準的方式研擬出口管制,避免價值鏈遭遇不必要的破壞。

這封信雖然沒有提及荷蘭的重要貿易夥伴中國,也沒有提到荷蘭的半導體設備大廠 ASML,但兩者都將受到影響。信中特別點名「DUV 設備」會受到影響,正是 ASML 賣給電腦晶片製造商的次先進設備。

荷蘭先前已經禁止極紫外光 (EUV) 曝光微影系統出口中國,相較於 EUV,DUV 雖然應用在較成熟的製程,仍是生產汽車、手機、電腦和機器人晶片最常用的設備。

然而,荷蘭政府在信中留下許多重要問題尚待釐清,例如 ASML 能否繼續服務中國客戶,該公司從 2014 年至今共賣出超過 80 億歐元的 DUV 設備給中國客戶。

ASML 是歐洲市值最高的科技公司,其 DUV 設備在中國主要賣給成熟製程晶片製造商,而其南韓大客戶如三星電子、SK 海力士,在中國都有可觀的產能。

ASML:對今年和長期展望無實質影響

ASML 另在周三發布聲明,表示荷蘭政府的出口規定「不會對公司 2023 年或更長期展望造成實質影響」,但也補充說,未來將需申請出口許可,才能從荷蘭出口 DUV 設備中最先進的產品。

ASML 說,「額外的出口管制並不影響所有浸潤式光刻機,只影響 DUV 設備所謂『最先進』的部分」,而該公司目前還沒有收到政府為「最先進」明確定義提供的指引。

該公司預估今年在中國營收將持平在 22 億歐元,代表相對整體而言表現是停滯的。相較之下,ASML 今年整體營收預估成長 25%,反映主要客戶如台積電、英特爾正在擴充產能。

如果 ASML 的聲明正確,新規定可能達不到美國對本土晶片設備產業相同的管制力道。ASML 的美國競爭對手目前營運受到多重限制,包括可以生產的產品,以及是否可派員工到中國工作。

日本可能本周公布出口新規定

美國去年 10 月宣布擴大出口管制,限制美國半導體生產設備外銷中國,遏制中國發展半導體產業和加強軍備的能力。然而此措施需要其他半導體設備供應大國響應才能發揮效果,因此拜登政府持續敦促荷蘭、日本加入美國的行列。

荷蘭和日本官員 1 月原則上已同意美國的訴求,而日本最快可能在本周公布最新晶片設備的出口管制。

美日荷是全球前三大半導體設備生產國,目前美商應材 (AMAT-US)、科林研發 (LRCX-US) 和科磊 (KLAC-US) 都已經禁止晶片生產設備輸中。


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