美光周四 (18 日) 宣布，未來數年將在日本為極紫外光 (EUV) 微影技術投資多達 5000 億日元 (37 億美元)，將用於 1 gamma 製程，日本政府也將提供支援。
美光引進的最新 EUV 設備可製造最先進 DRAM 製程 1 gamma，可用來量產影像處理網路等複雜應用所需的材料。
美光將成為第一家把 EUV 技術帶入日本的半導體業者，預估 2025 年起投入台灣和日本 1 gamma 的節點。
彭博稍早引述知情人士說法報導，美光已獲得日本政府 15 億美元財務支援在廣島擴廠，並生產新一代晶片，潛在受益供應商包括荷蘭 EUV 大廠艾司摩爾 (ASML)，和日本半導體設備商東京威力科創 (Tokyo Electron)。
美光的廣島廠去年開始量產大容量、低功耗的 1-beta DRAM 晶片。
日本在全球的半導體市占率 1980 年代曾經達到約 50%，但近年已經陡降到約 10%，目前正在積極振興半導體產業，同時，美國正積極拉攏盟國，一同抗衡中國在晶片和先進技術方面的發展。
