〈力積電法說〉總座謝再居:明年AI應用更廣泛 下半年產能利用率可望回升至80-90%

力積電總座謝再居:明年AI應用更廣泛 下半年產能利用率可望回升至80-90%。(圖:shutterstock)
力積電總座謝再居:明年AI應用更廣泛 下半年產能利用率可望回升至80-90%。(圖:shutterstock)

晶圓代工廠力積電 (6770-TW) 今 (19) 日召開法說,總經理謝再居表示,明年可期待 AI 應用更廣泛拓展至其他領域,帶動半導體需求成長,加上產業鏈庫存調整已超過一年,預期明年下半年產能利用率有機會回到 80%、甚至 90% 以上。

談及 AI 應用,謝再居指出,力積電本身也有提供 WoW(晶圓堆疊技術) 製成 3D AI 加速器,可提供未來 AI 及高速運算需求,目前還在試驗開發階段,客戶非常感興趣,預計明、後年會有一些成果。

展望後市,謝再居認為,AI 產業對半導體影響非常大,目前還是局部性應用,明年可期待更廣泛應用到其他領域,透過 AI 應用帶領半導體需求成長。

力積電預期今年資本支出約 19.3 億美元,較前次預估的 18.9 億美元略增,其中 12 吋銅鑼新廠約占 78%,其他 12 吋廠 20%、8 吋廠 2%。力積電上半年資本支出已接近新台幣 300 億元,全年估近 600 億元。

謝再居指出,銅鑼新廠月產能 8500 片裝機計畫持續進行,大部分機台已遷入,預計明年春節期間開始小量試產,希望明年夏天能完成客戶端產線驗證,下半年開始貢獻產出,短期目標產能達 2 萬片。

另外,謝再居也說,基於客戶對「台灣 + 1」的期待,日前與日本 SBI 控股簽署合作意向書,規畫成立籌備公司,在日本籌資、建廠,不過,他也透露,已向日本 SBI 控股說明,未來 2-3 年主要投資將在銅鑼廠,無法提供日本建廠計畫財務支持。
 


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