儘管美國祭出晶片出口禁令，中國仍持續擴大成熟製程晶片的生產。報導稱，上海微電子預計在 2023 年底能將交付首台國產 28 奈米浸潤式光刻機，也突顯出中國晶片產業正迅速擴張。
在近 2 年來，中國國產光刻機持續在發展，不過相關進展卻有所保密，官宣消息很少。但如今，官方證實了光刻機進展的消息，也意味著中國在光刻機的研製方面出現了實質性的突破。上海微電子有望藉此製程工藝技術也直接感超日本佳能、尼康廠商，成為繼荷蘭 ASML 後，全球第二個先進光刻機巨頭。
值得注意的是，華為也在光刻機技術上也在積極投入，並取得了成果，像是在去年底就披露了名為「反射鏡、光刻裝置及其控制方法」的專利，涉及到 EUV 光刻關鍵技術。
事實上，中國在光刻機技術在世界市領先的一方，該國在 1965 年研製出了 65 型接觸式光刻機，1985 年研製出的分步光刻機樣機，當時與國外先進水平差距不超過 7 年，但此後，為了以最快速度趕上世界先進晶片製造水準，中國開始自國外購買光刻機。
上海微電子副董事長賀榮明帶領的上海微電子，可以說是中國企業在光刻機走向自主的努力的一個縮影。近年來，在光刻機全球產業鏈中，湧現了多家中國製造商，包括光刻機光源系統廠商福晶科技、塗膠顯影廠商富創精密、光刻膠廠商南大光電、光刻氣體廠商華特氣體等。
其中，富創精密也是全球為數不多的能夠量產應用於 7 奈米工藝製程半導體設備的精密零組件製造商。針對國產化議題，富創精密也曾表示，公司將在既有產品基礎上逐步實現半導體設備精密零組件的國產化。
