英特爾採用EUV光刻機開始在愛爾蘭廠量產晶片

英特爾採用EUV光刻機開始在愛爾蘭廠量產晶片。(圖:REUTERS/TPG)
英特爾採用EUV光刻機開始在愛爾蘭廠量產晶片。(圖:REUTERS/TPG)

晶片製造商英特爾 (INTC-US) 周五 (29 日) 表示,已開始在其位於愛爾蘭價值 185 億美元的工廠採用極紫外線 (EUV) 光刻機進行大量生產,並宣稱這是其尋求重新奪回競爭對手地位的「里程碑」時刻。

這家美國業者表示,這些 EUV 工具理論上足夠精確,可以用月球上的雷射筆擊中人的拇指,它將在實現英特爾在 4 年內推出第五代技術的目標中發揮關鍵作用。

愛爾蘭廠是英特爾首次嘗試使用 EUV 技術進行大量製造。

曾是全球領先晶片製造商的英特爾已經失去領先地位,但表示它有望憑藉其製造技術重新奪回領先地位,並表示將與台積電 (TSM-US) 的最佳製造技術相媲美。

英特爾技術開發總經理凱萊赫 (Ann Kelleher) 在聲明中表示:「這對英特爾和整個半導體行業來說都是一個里程碑。」「將英特爾 4 製程技術轉移到愛爾蘭進行大量生產,是實現歐洲領先製造的一大進步。」

該廠位於都柏林郊外的萊克斯利普鎮,是採用 EUV 的 Intel 4 製造流程的首個大量生產工廠。先進的製造技術將生產其即將推出的筆記型電腦「Meteor Lake」晶片,這將為 AI PC 的未來發展奠定基礎。

英特爾通常在俄勒岡州波特蘭郊區希爾斯伯勒的研發基地最終確定新的製造流程。一旦確定後,就會將製造模板出口到世界各地的其他工廠,例如愛爾蘭或美國亞利桑那州廠。

EUV 機器由荷蘭製造商 ASML 製造,有巴士那麼大,每台成本約 1.5 億美元,是世界上最昂貴的工具之一。

除了在愛爾蘭的現有設施外,英特爾還計劃在德國建造大型晶片廠,在波蘭建造半導體組裝和測試設施。隨著歐盟希望減少對美國的依賴和亞洲的供應,這些新工廠將受益於歐盟放寬的融資規則和補貼。

英特爾表示,這三個工廠將有助於在歐洲創建首個點到點先進半導體製造價值鏈。

新工廠將使英特爾在愛爾蘭的製造面積增加一倍。英特爾是愛爾蘭最大的跨國雇主之一,擁有 4900 名員工,約占其歐洲勞動力的一半。隨著時間演進,英特爾計畫在該廠再新增 1600 個工作機會。


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