〈英特磊法說〉擁三成長動能 營運走出谷底
鉅亨網記者劉玟妤 台北
三五族群英特磊 IET-KY(4971-TW) 今 (9) 日召開法說會,展望明年,董事長高永中認為,銻化鎵、MBE 設備及服務,以及 6 吋磷化銦的 HBT ,都會是成長動能。從目前市場趨勢來看,公司營運已逐漸走出谷底,短期內會回溫。
高永中說明,磷化銦方面,雖然仍待主要客戶出清庫存,但用於高頻與光電的 HBT、APD 及 VCSEL 等磊晶片訂單持續回升,美日大廠都加大 APD、PIN 及 iHEMT 訂單。另外,也積極拓展用於高速網路到環境感測等眾多應用中的 EAM 及 QCL 雷射產品量產訂單。
至於銻化鎵部分,高永中指出,紅外磊晶片國防以外訂單比例提高。砷化鎵部分,高端國防以及航天 pHEMT 量產訂單也如期出貨,並努力爭取 GaAs pHEMT 新客戶。
另外,高永中提到,客戶對氮化鎵二次成長的反應良好,大尺吋矽晶磊晶片在美、台訂單比例增高。因此第三季購置 MBE 機台以提升氮化鎵產能。
外界關心美國晶片法案,高永中表示,二廠擴建工程與新增機台及機台升級資金運用進程,將配合美國晶片法案及可轉換公司債發行。