在最近的財報電話會議上，戴爾 (DELL-US) 透露了 Nvidia(NVDA-US) 的下一代 Blackwell 系列不僅將擁有 B100 AI 加速卡，而且稍後將提供升級版本 B200。
根據戴爾營運長 Jeff Clarke 的說法，輝達將於 2025 年推出載有「Blackwell」架構的 B200 產品，功耗或將達到 1000W。Clarke 也表示，戴爾的旗艦產品 PowerEdge XE9680 機架伺服器採用了輝達 GPU，是該公司歷史上「速度最快」的解決方案。
Clarke 表示，戴爾對 B100 和 B200 所發生的事情感到非常興奮，「我們在散熱方面的特徵，你真的不需要直接液體冷卻，即可達到每個 GPU 1000 瓦的能量密度」。
B200 並未出現在輝達去年 10 月發布的技術路線圖中。 目前，輝達也尚未公布 B100 的詳細訊息，不過可能會在本月晚些時候即將舉行的開發者大會上釋出相關細節。另據報導，B200 的功耗將較 H100 增加 40% 以上。
此外，有媒體機構分析指出，H200 很可能會基於另一種性能增強的製程技術構建，例如採用 3nm 級的製程技術構建。
據報導，考慮到晶片消耗的功率以及所需的散熱量，B100 可能會成為該公司的第一個雙晶片設計生產的 GPU，從而使其具有更大的表面積來散熱。 據悉，AMD 和英特爾採用了具有多晶片設計的 GPU 架構，或將成為產業趨勢。
