全球最大電腦晶片設備設備供應商 ASML (ASML-US) 周三 (17 日) 表示，已將其最新的「高數值孔徑 (NV)」EUV 光刻系統之一運送給第二家客戶。
ASML 在 12 月至 1 月向英特爾 (INTC-US) 提供了一款高 NA 工具，但沒有透露第二個客戶的身份。潛在客戶可能包括為輝達 (NVDA-US) 和蘋果 (AAPL-US) 或三星生產晶片的合約晶片製造商台積電 (TSM-US)(2330-TW)。
這些機器每台成本約為 3.5 億歐元，將支援新一代更小、更快的晶片。
此次出售與 ASML 未達預期的第 1 季財報一起披露。
台積電和三星先前曾表示計劃採用最新系統，將導致單一晶片上可封裝的電晶體數量大幅增加。
英特爾將於 2026 年至 2027 年在其 14A 系列晶片的早期生產中開始使用高 NA 工具。
第一台高數值孔徑機器是在荷蘭 Veldhoven 的 ASML 總部組裝，採用 EUV 技術的公司可以使用該機器進行測試。該公司表示已收到 10 至 20 台機器的訂單。
光刻系統使用光束來幫助創建晶片電路。ASML 的第一代 EUV 系統目前用於製造智慧型手機和人工智慧晶片中的大多數晶片，它使用「極紫外線」波長的光來創建分辨率低至 13 奈米的設計特徵，比病毒還要小。
該公司周三在 X 上發布貼文和照片表示，高 NA 機器已成功生產 10 奈米的特徵。根據 ASML 官網，該機器的理論極限是 8 奈米。
