根據彭博周三 (5 日) 報導，晶片製造設備商艾司摩爾 (ASML)(ASML-US) 今年將向台積電(2330-TW)、英特爾(INTC-US)、三星交付最新的高數值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV)。
根據艾司摩爾發言人透露，該公司財務長 Roger Dassen 在最近一次的電話會議上向分析師說，公司最大的三個客戶──台積電、英特爾、三星──都將在今年年底前拿到 High-NA EUV。
報導指出，英特爾已經訂購最新的 High-NA EUV，並將在 12 月底把這台機器運送奧勒岡州的工廠。不過目前還不清楚台積電何時會收到這台艾司摩爾的最新設備，台積電一位代表僅表示雙方密切合作，拒絕進一步置評。
艾司摩爾的這台最新機器可以用只有 8 奈米厚的線來印壓半導體──較上一代機器還要小 1.7 倍──將用來生產替人工智慧 (AI) 應用和先進消費電子產品的晶片。
據了解，High-NA EUV 造價不斐，一台價格為 3.5 億歐元 (約 3.8 億美元) 而且重量相當兩台空中巴士的 A320 飛機。對於如此昂貴價格的機器，台積電業務開發資深副總裁張曉強 (Kevin Zhang) 上月曾在阿姆斯特丹的一次活動上表示太貴，而且將於 2026 年底前推出的 A16 節點技術不需使用到 High-NA EUV，可以依賴現有的極紫外光曝光機(extreme ultraviolet)。
儘管如此，台積電一直是艾司摩爾 High-NA EUV 計畫的積極參與者。包括 Janardan Menon 在內的 Jefferies 分析師表示，他們預估台積電將在 2028 年在 A14 節點上使用 High-NA EUV。分析師在與 Dassen 的電話會議後表示，艾司摩爾仍認為 2025 年營收可能處於指導區間的上半部。
Jefferies 分析師表示，在今年剩下的三個季度裡，艾司摩爾的平均訂單可能在 57 億歐元左右，這將使 2025 年的銷售額達到 400 億歐元。
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