新應材 (4749-TW) 即將在明年 1 月中旬掛牌上櫃，董事長詹文雄表示，隨著客戶 2 奈米即將在明年下半年量產，自家光阻週邊的表面改質劑 (Rinse) 可望跟著客戶成長，加上新切入底部抗反射層 (BARC)、洗邊劑 (EBR) 兩項產品開始發酵，明年營運將再優於今年，法人估，新應材明年營收將成長 2 成。
詹文雄指出，以兩班制生產推算，高雄廠一期與台南廠一期可用於生產 Rinse 及其他產品，兩廠產值最多可以達 40 億元，高雄廠二期與台南廠二期也正進行驗證，預計年後會進入試產，並在 2026 年第一季開始投產放量，兩廠合計最大產值可達 50 億元。
新應材主力產品為半導體先進製程光阻週邊的表面改質劑 (Rinse)，為微影製程良率關鍵材料，目前資本額為新台幣 8.22 億元，2023 年淨利為 3 億 1,837 萬元，每股盈餘為 3.91 元，2024 年前三季淨利為 6 億 2,979 萬元，已超越去年全年，年增率達 133%，其中半導體營收占比現已超過 78% 並持續成長。
新應材成立於 2003 年，以面板及半導體光學元件光阻材料之自主研發與量產實績為基礎，於 2018 年積極轉型投入半導體先進製程並聚焦在良率關鍵的微影 (Lithography) 特化材料開發，現已是目前國內唯一在半導體微影製程，從原料合成、純化到配方自主設計，且持續擴大量產規模的特化材料公司。
新應材未來將持續朝奈米級微影特化材料發展，包含即將到來之 2 奈米，及未來 1.4 奈米製程之關鍵材料，可有效提升先進微影製程終端應用之良率。
半導體特化材料開發及驗證時間長，新應材有四大關鍵競爭優勢，一是從配方開發向上整合自建原料合成能力，二則建立本土材料供應鏈策略聯盟，三是快速回應及高學習曲線，四則是優異的品質控管及自主設計製程技術，已搶佔與國際材料大廠競爭之有利位置。
新應材未來將持續投入半導體微影製程之特化材料開發技術，以期提供客戶高品質且多元的產品，目前除了以光阻週邊特化材料為發展基礎外，已成功開發 DUV 光阻，可應用半導體微影製程及光學元件製程，有望成為本土第一家半導體光阻供應商。
