特化材料廠新應材 (4749-TW) 今 (12) 日召開法說會，董事長詹文雄表示，隨著客戶先進製程持續推進，今年營運表現將取決於 2 奈米製程量產進度，相關需求將由高雄廠擴產支應，其中高雄廠一期今年將達滿載，二期預計明年上半年投產。
總經理郭光埌指出，先進製程節點持續演進，包括 A16、A14 製程目前已進入驗證階段，新應材相關材料均持續參與客戶開發；此外，在先進封裝方面，公司已有一項產品通過客戶驗證，預計今年開始貢獻營收，將導入客戶全新封裝型態。
在產能布局方面，新應材高雄廠一期產能預計今年將達滿載階段，二期預計於 2027 年第一季量產；高雄三期則是因應下世代製程需求；龍潭科學園區新廠將建置全新研發中心與合成工廠，預計 2028 年初完工，屆時將以生產 DUV 光阻為主。
產品布局方面，新應材主要聚焦先進製程材料、先進封裝材料與光學元件材料 三大領域。其中先進微影材料已全面導入客戶量產，包括表面改質劑 (Rinse)、洗邊劑 (EBR)、清洗劑 (Cleaner) 與底部抗反射層 (BARC)，並隨製程節點從 2 奈米延伸至 1.4 奈米；公司也持續開發 Protection Layer 等新材料。
光阻材料方面，新應材近年積極布局 DUV 光阻液，未來三年將重點發展 KrF 與 ArF 光阻產品，其中 KrF 已獲客戶認可，ArF 則預計進入客戶驗證階段。詹文雄指出，全球 DUV 光阻市場規模去年約 25 至 27 億美元，其中 KrF、ArF 與 ArFi 超過 20 億美元，預估至 2030 年將成長至約 30 億美元，因此公司規劃投入約 1 億美元資金發展相關產品。
先進封裝方面，新應材也布局共封裝光學 (CPO) 相關材料。總經理郭光埌表示，CPO 技術仍需數年發展，公司已針對光學材料、膠材以及暫時保護層等多項材料進行開發，相關材料須能承受紅外線雷射等嚴苛條件，目前已有多項產品取得客戶進展，未來量產時程仍須視客戶導入進度而定。
新應材去年毛利率約 43%，展望今年，詹文雄指出，去年研發費用增加約 1.6 億元、折舊增加 1 億元，加上新廠管理費用，公司預估毛利率將大致維持去年水準。
至於轉投資布局，新應材去年底新設立的新寶紘目前仍處產品開發階段，今年仍需投入建廠與研發，短期內不會貢獻獲利；另外公司投資奇鼎，則看好其在廠務設施與 ESG 領域的經驗，未來在黃光製程周邊設備與材料上具有潛在合作機會。
