荷蘭曝光機大廠艾司摩爾 (ASML-US) 的股價近期自高點回落，為投資人提供了相對便宜的買入機會。根據 TD Cowen 分析師的研究報告，艾司摩爾目前股價已呈現吸引力。
根據《巴隆周刊》報導，截至上週四（19 日）收盤，艾司摩爾在美國上市的股票過去一個月下跌了約 7%。
雖然艾司摩爾曝光機訂單創新高、台積電 (2330-TW) 投資強勁，但因為市場資金正從與 AI 相關的半導體股票撤出，使市場對這些利好消息的熱情被削弱。
TD Cowen 分析師 Krish Sankar 指出，艾司摩爾通常相較於美國大型半導體設備公司交易時會有溢價，但目前由於其成長預期略低於同業，股價差距縮小，使投資該股更具吸引力。
Sankar 指出，自 2022 年底以來，艾司摩爾的估值相較於同業半導體設備公司，如應用材料 (AMAT-US) 、科林研發 (LRCX-US) 及科磊 (KLAC-US) 的溢價，已從 120% 下降至如今約 20%。
這位分析師認為，這與晶片製造技術進步有關，使對艾司摩爾的極紫外光（EUV）曝光設備的使用需求減少。
然而，Sankar 認為，未來新一代的邏輯晶片與記憶體晶片將需要使用更多艾司摩爾的 EUV 曝光機。
Sankar 寫道：「對於先進製程晶圓代工與邏輯晶片的論點已廣為理解，但我們認為客戶在動態隨機存取記憶體（DRAM）發展路線圖中納入 EUV 曝光機的需求仍被低估。」
根據《巴隆》，目前圍繞艾司摩爾的一個疑問是，其最新的高數值孔徑 EUV 曝光機（High NA EUV）的採用情況。
台積電對公開承諾購買這些設備仍持謹慎態度，並認為可以延長現有設備的使用壽命。但 Sankar 指出，高數值孔徑 EUV 機台可靠性提升，應能說服客戶進行升級。
Sankar 預測，到 2026 年艾司摩爾將有 60 套曝光機投入使用，到 2027 年將增至 68 套。這個增長主要來自高數值孔徑 EUV 機台數量翻倍，以及低數值孔徑機台轉向 3800E 型號和未來的 4000F 型號。
Sankar 給予艾司摩爾「買入」評級，並將其阿姆斯特丹上市股票目標價定在 1,500 歐元（1,735 美元），基於 2027 年每股收益預測的 48 倍本益比計算。
在阿姆斯特丹股市，艾司摩爾週五股價下跌 3.5%，收於 1,128.20 歐元；其美國上市股票則下跌 3.60%，報 1,317.25 美元。
