根據《路透》周四 (16 日) 報導，美國國會推動限制中國半導體設備的法案出現調整，最新版本在刪減部分爭議條款後，仍保留針對關鍵設備的管制措施，包括對荷蘭設備商艾司摩爾 (ASML-US) 深紫外光 (DUV) 浸潤式微影設備的全國性出口限制，顯示華府在科技競爭中持續收緊對中國的管制方向。
這項名為《硬體技術多邊協調管制法案》(Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act, 簡稱 MATCH 法案) 的提案於 4 月初由跨黨派議員提出，目標在於填補現行對中國晶片與設備出口管制的漏洞，並促使盟友如日本與荷蘭採取一致措施，以維持美國在人工智慧 (AI) 等關鍵技術領域的領先地位。眾議院外交委員會預計下週就該法案進行表決，為其立法程序邁出重要一步。
相較於初版草案引發產業強烈反彈，新版本已刪除多項廣泛性限制措施。先前版本曾被業界形容為「失控列車」，不僅試圖迫使盟友全面對齊美國管制，也對特定企業與設備祭出大範圍禁令，引發對出口受限與營收衝擊的疑慮。其中，針對冷蝕刻設備的全面國別限制已被移除，相關設備主要由美國科林研發 (LRCX-US) 與日本東京威力科創 (Tokyo Electron) 供應。
不過，調整後的法案仍對中國主要晶片製造商維持嚴格限制，包括長鑫存儲 (CXMT)、長江存儲 (YMTC) 與中芯國際 (00981-HK) 等企業，禁止外國公司向其受美方限制的廠房提供設備。此外，法案亦要求相關企業在為受限設施提供設備維護服務時須申請許可，雖然不再採取一律駁回的政策，但仍被視為對外國供應商的一項重要約束。
美國自 2022 年起推動對中國晶片與設備的全面管制，並持續與荷蘭、日本協調政策，但業界認為各國標準仍存在差距，導致競爭環境不對等。MATCH 法案因此設下外交協商期限，若未能達成一致，將進一步擴大美方單邊管制措施。
對此，中國駐美使館表示將密切關注法案進展，並強調反對美方泛化國安概念，透過各種手段迫使其他國家加入對中科技封鎖。儘管法案內容有所收斂，美國在半導體領域對中國的限制方向並未改變，未來仍可能對全球供應鏈與產業競爭格局產生影響。
