全球高端光刻技術競賽持續升溫，荷蘭駐韓大使 Peter van der Vliet 近日受訪時表示，全球多個地區正同步布局下一代光刻技術研發，這是科技產業的常態競爭，並非單獨針對中國。
他同時強調，荷蘭與南韓的合作範圍遠超過外界熟知的三星電子、SK 海力士與艾司摩爾 (ASML-US) 間的商業往來，而是涵蓋設備製造、科研機構與人才培育的多層次夥伴關係。
受惠於 AI 產業的爆發式成長，高端記憶體晶片需求持續攀升，SK 海力士今年股價大漲，並於 3 月簽下價值 69 億歐元的設備採購大單。
這位駐韓大使指出，除艾司摩爾外，荷蘭還有多家世界級的半導體前道與後道設備商，並與韓企保持密切合作，例如艾司摩爾旗下專注電漿增強原子層沉積技術的國際半導體設備公司，能在晶片上逐層沉積超薄薄膜，該技術在製程微縮中至關重要。該公司已在京畿道華城市設立研發與生產基地，去年 12 月完成擴建，投資額達 1362 億韓元。
此外，貝思半導體工業公司、荷蘭應用科學研究組織等也長期深耕南韓市場。
他還特別看好光子技術成為雙方新合作亮點。該技術以光信號取代電信號，實現晶片內外的資料傳輸與運算，具備顯著的低能耗優勢，正好契合半導體產業追求效能與節能的雙重目標。
除企業層面的合作，荷蘭與南韓在學術與官方研發上的交流也持續擴大。埃因霍溫理工大學、代爾夫特理工大學均開設針對南韓半導體專業的交換計畫，政府間也針對精密測量與先進封裝開展聯合研發磋商。
然而，複雜的地緣政治局勢與供應鏈波動為合作帶來挑戰，例如荷姆茲海峽航運受阻、油價上漲，持續推高全球物流成本，三星電子已公開坦言壓力沉重。
Peter van der Vliet 認為，風險正是深化雙邊合作的契機，荷韓兩國可在經濟韌性、安全保障、關鍵原材料、再生能源及國防等領域拓展夥伴關係。
面對中國加速自研光刻設備以降低對外依賴，Peter van der Vliet 表示，這是全球科技競爭的自然現象。他提醒，美國國會上月提案擬將浸沒式深紫外光刻機 (DUV) 納入對中國的出口限制，恐適得其反。
艾司摩爾執行長富凱亦呼籲，應針對對中國設備出口制定一致規則，並指出目前出售給中國的 DUV 設備技術已屬 2015 年的舊世代，若再收緊管制，只會加速中國自主研發替代方案的進程。
