荷蘭首相羅布·耶滕正在直接向美國總統川普交涉，希望阻止華盛頓進一步收緊對晶片設備造商ASML的出口限制。
據《彭博》報導，耶滕24日（周四）表示，他已經多次與川普以及美國國會議員討論《硬體技術管制多邊協調法案》（MATCH），並強調保護半導體產業的重要性。
「我非常有信心，我們最終能夠達成一項對各方都可行的協議。」耶滕說。
爭議的核心，是美國是否會進一步擴大對中國獲取先進晶片製造設備的限制。
目前美國國會正在推動的《MATCH法案》，可能進一步限制美國盟友向中國出口先進晶片製造設備。如果相關措施落實，所有ASML浸潤式深紫外曝光機（immersion DUV）對華銷售都將受到影響。
這意味著美國對華晶片設備限制可能進一步從最先進極紫外曝光機（EUV），向更多DUV設備延伸。
ASML是全球唯一能夠生產EUV曝光機的企業，也是歐洲市值最高的公司之一。其EUV設備從未獲准出口中國，荷蘭政府也已經對部分先進DUV設備實施出口限制。
耶滕認為，荷蘭已經對ASML實施嚴格出口管制，在繼續保護敏感技術的同時，也需要考慮本國半導體產業的利益。
他表示，保護荷蘭晶片產業「不僅符合我國利益，也符合美國以及更廣泛利益」，同時強調相關限制需要保持平衡。
對ASML而言，中國仍然是一個重要市場。今年第二季，中國佔ASML系統銷售淨額14%，較第一季19%有所下降。
因此，《MATCH法案》不只是美荷之間關於出口管制尺度的討論，也牽動ASML在中國市場能夠銷售哪些設備。
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