三星電子週三 (4 日) 於東京品川舉行 2019 晶圓代工論壇 (Samsung Foundry Forum)，席間向日本企業展示了 7 奈米製程的極紫外光 (EUV) 技術。
三星電子表示，儘管有出口限制，但仍有大量來自日本的無晶圓廠公司和合作夥伴參加了論壇。
SFF 是三星電子在主要國家推廣其代工業務規劃和新技術的活動，該論壇於 2016 年在美國開始舉辦，自 2017 年以來，已在韓國、美國、中國、日本和歐洲等五個地區舉辦。
三星電子發布了將在明年推出的 3 奈米 Gate-All-Around (GAA) 製程，並為企業客戶釋出了製程設計套件 (PDK)。
三星的 3 奈米晶圓代工製程是一項尖端技術，與最新批量生產的 7 奈米鰭式場效電晶體 (FinFET) 製程相比，可將晶片面積減少 45%，並可將功耗降低 50%、性能提升 35%。
三星電子於 4 月份在韓國華城的 S3 產線開始大規模生產 7 奈米晶片，並計劃在今年內完成 4 奈米製程的開發，並於明年開發 3 奈米製程。
特別值得一提的是，三星電子也藉機解釋了其因日本對韓國的出口限制而導致供應中斷的 EUV 鑄造製程的生產穩定性。由於管制，外界難免擔心該製程會遇到困難。
7 月初，日本開始限制蝕刻氣體 (高純度氟化氫)、含氟聚酰亞胺和光刻膠的出口。 因此，外界一直擔心三星電子的生產中斷，這是韓國唯一一家擁有 EUV 批量生產技術的公司。
