全球最大記憶體晶片商三星電子在週四 (20 日) 宣布，該公司位在南韓華城的新的尖端半導體生產線已開始量產。
外媒報導指出，三星電子的 V1 工廠是該公司第一條致力於極紫外 (EUV) 光刻技術的半導體生產線，並使用 7 奈米 (nm) 以下的工藝製程，V1 生產線於 2018 年 2 月破土動工，並於 2019 年下半年開始測試晶圓生產，第一批產品預計將於第一季出貨給客戶。
三星電子總裁兼鑄造業務主管 ES Jung 博士表示：「除了技術領先地位和設計基礎架構之外，卓越的製程也是晶圓製造業務重要的要素之一，隨著產量的增加，V1 將增強我們回應市場需求的能力，並擴大為客戶提供更多支持的機會。」
V1 生產線目前正在生產採用 7 奈米和 6 奈米工藝製程的最先進的行動晶片，並將繼續微縮至 3 奈米製程。
據三星電子的計劃，到 2020 年底，V1 生產線的累計總投資將達到 60 億美元，預計 7 奈米及以下工藝製程的總產能將比 2019 年增長三倍。
該公司也指出，EUV 光刻技術的採用在近期以來變得越來越重要，將能為 5G、AI 和汽車等次世代應用提供最佳選擇。
隨著 V1 生產線的投入使用，三星如今在南韓和美國共有 6 條晶圓代工生產線，其中包括 5 條 12 吋生產線和 1 條 8 吋生產線。
