日經新聞 (NIKKEI) 報導，日本信越化學 (Shin-Etsu Chemical) 將斥資 300 億日圓 ( 2.85 億美元，約合台幣 81.88 億元)，把半導體光阻劑(photoresist) 的產能提高 20%，以擴大高階晶片製造半導體關鍵材料的供應。
根據報導，信越化學將在日本和台灣新興建工廠，位於台灣雲林工廠將先完成，預計 2021 年 2 月開始量產，屆時信越得以在台灣生產可與極紫外線 (EUV) 光刻技術兼容的光阻液，以滿足台積電等蘋果供應鏈台廠客戶的需求。
日本方面，信越新潟縣的直江廠預計於 2022 年 2 月開始運作。
總計信越光阻液台灣的產能將增加 50%，直江廠則提高 20%，同時也會陸續招聘新員工。
除滿足台廠客戶外，信越擴充產能後也將為南韓、中國大陸和其他市場的客戶提供服務。
信越化學的光阻液以高靈敏度與有效提高製成效率而聞名，除光阻液外，信越還提供晶圓等其他半導體材料如，以及幫助出客戶找出生產問題等服務方案。
目前日本競爭對手中， JSR 和 Tokyo Ohka Kogyo(TOK) 也在日本和海外生產 EUV 光阻液，住友化學以及 Fujifilm 也正虎視眈眈。
光阻液是半導體供應鏈關鍵材料，隨著半導體運用日益廣泛，研究機構 Fuji Keizai 預估，於 2019 年至 2024 年間，光阻液市場將成長 60％，達到約 2500 億日圓的規模。全球光阻液市場以日本為大宗，掌握約 80% 市佔，光是信越化學就握有約 20% 至 30% 的市佔。
