全球半導體微影設備龍頭艾司摩爾 (ASML)(ASML-US) 今 (21) 日公布第二季財報，也上調全年營收展望，總裁暨執行長溫彼得 (Peter Wennink) 表示，不論邏輯、記憶體業者均積極提高產能，支撐數位基礎建設建置，對公司產品需求相當強勁，預期今年營收年增幅將達 35%，較三個月前預期的 30% 增加 5 個百分點。
ASML 第二季營收 40 億歐元，純益 10 億歐元，毛利率 50.9%；溫彼得指出，第二季營收符合財測，毛利率則優於財測，主要受惠客戶期望透過軟體升級，快速提高產能，以及一次性的會計收入認列 (one-off revenue accounting releases)。
ASML 第二季新增訂單為 83 億歐元，其中 49 億歐元來自 EUV 系統訂單，總未交貨訂單金額 (Backlog) 達到 175 億歐元。
ASML 也公布第三季財測，營收估落在 52-54 億歐元，毛利率約 51-52%，均優於第二季表現，研發成本為 6.45 億歐元，管銷費用約 1.8 億歐元；溫彼得指出，由於市場積極提高產能支持數位基礎發展，帶動邏輯及記憶體晶片長期需求，不論在先進製程、成熟製程，對公司產品需求均相當強勁。
溫彼得強調，ASML 正努力將設備產量最大化，預期 2021 年全年營收將比去年成長 35%，毛利率估落在 51-52%，年化有效稅率則約 15%。
ASML EUV(極紫外光) 微影系統也持續出貨，其中，第一台 NXE:3600D 已出貨給客戶，較前一代產品生產力提高 15-20%，且疊對精度 (overlay) 也提高 30%，同時正增加 EUV 在記憶體產業的應用，並協助三個 DRAM 客戶實現在未來的節點中導入 EUV 計畫。
ASML DUV(深紫外光) 微影系統業務方面，TWINSCAN NXT:2000i 浸潤式微影系統在客戶端已達到單日曝光 6300 片晶圓的新紀錄，同時完成第 100 台 TWINSCAN 的翻新，凸顯公司對於推動循環經濟的承諾，預計今年將出貨 20 台翻新後的 PAS 系統及 6 台 TWINSCAN 系統。
至於應用產品方面，ASML 本季完成首台 YieldStar 1385 出貨，較前一代產品具備更高的精確度，生產力提高約 50%。
