中國半導體設備自主化再有新進展。上海微電子裝備集團（SMEE）在第九屆中國國際進口博覽會（進博會）展示自主研發的新一代前段製程乾式掃描投影曝光機SSC800、SSB800，涵蓋KrF與I-line兩大技術路線。
第九屆中國國際進口博覽會於11月5日至10日在上海舉行，SMEE此次在中國館展出SSC800、SSB800設備模型，透過透明剖面設計呈現設備內部光學系統及機電結構，展示中國前段製程曝光機自主化的階段性成果。
SMEE表示，此次展出的設備模型採用透明剖面設計，呈現整機光學系統及內部機電系統的配置。設備採用中國國產標準化前段製程微影架構，可支援I-line與KrF兩種主流技術路線，從高精度物鏡、照明系統、高速雙工件台與光罩台，到自動化物料傳輸、對準及調平感測系統，核心環節均已實現自主可控，並具備穩定的製程適應能力及產線運作可靠性。
在設備性能方面，據悉，中國國產前段製程乾式微影設備的成像性能已達國際同類領先產品水準，套刻精度與生產效率也持續追趕國際標竿。
目前銷售中的SSC800系列採用KrF技術，SSB800系列則採用I-line技術，兩款機型均以自主研發的雙工件台平台為基礎，搭載中國國產大數值孔徑（NA）物鏡，關鍵曝光成像指標對標國際標竿，其中SSC800整體性能已躋身產業第一梯隊。
在供應鏈自主化方面，SMEE表示，設備建構於全自主可控的技術架構之上，關鍵零組件國產化率已突破90%，並完成產品定型及規模化量產，填補中國國內相關設備供給缺口。目前已有多台設備在中國主要邏輯晶片及記憶體製造商的量產產線穩定運作，累計支援晶圓投片逾1,000萬片，設備有效運行率超過92%。
SMEE成立於2002年，是中國唯一具備前段製程乾式微影設備穩定量產交付能力的製造商，也是中國前段製程微影設備自主供應體系的重要支柱，業務涵蓋核心微影設備的設計研發、生產製造、市場銷售及全流程技術服務。
公司表示，將持續投入自主技術創新，深化與上下游供應鏈及產業夥伴的合作，推動半導體產業鏈協同發展，為中國半導體產業升級提供核心設備支援。
