韓媒:美光、SK海力士拼HBM良率 以通過輝達測試

韓媒:美光、SK海力士拼HBM良率 以通過輝達測試(圖:shutterstock)
韓媒:美光、SK海力士拼HBM良率 以通過輝達測試(圖:shutterstock)

據《wccftech》引述韓媒《DealSite》報導,輝達 (NVDA-US) 的品質測試似乎讓 HBM 製造商遇到了困難,因為與傳統記憶體產品相比, HBM 良率明顯較低。

良率問題很常見,主要與半導體晶圓有關,以單一矽晶圓生產的半導體晶片的數量來衡量。 將良率維持在最佳水準一直是台積電 (2330-TW)(TSM-US) 和三星代工等公司面臨的一個巨大問題和任務,但這個問題似乎也蔓延到了 HBM 行業。

韓媒報導稱,美光 (MU-US) 和 SK 海力士等廠商在輝達下一代 AI GPU 資格測試的競爭中正面對決,而且似乎差距不大,良率是他們的阻礙。

在 HBM 領域,良率主要與堆疊架構的複雜性相關,該架構涉及多個儲存層和用於層間連接的複雜矽通孔 (TSV)。 這種複雜性增加了製造過程中出現缺陷的機會,與更簡單的記憶體設計相比,可能會降低成品率。

製作過程中,如果其中一顆 HBM 晶片被證明有缺陷,則整個堆疊都會被丟棄,這表明製造過程有多複雜。

消息人士稱,目前 HBM 記憶體的整體良率在 65% 左右。其中,美光和 SK Hynix 似乎在這場競爭中處於領先地位,據報導,美光已開始為輝達的 H200 AI GPU 生產 HBM3E,因為它已經通過了 Team Green 設定的認證階段。

另據報導,SK 海力士副社長金起台 (Kim Ki-tae) 2 月 21 日則在官方落格指出,雖然外部的不穩定因素仍在,但今年記憶體市場可望逐漸加溫。 其中原因包括,全球大型科技客戶的產品需求恢復。 此外,PC 或智慧型手機等 AI 裝置對於人工智慧的應用,不僅會提升 HBM3E 銷量,DDR5、LPDDR5T 等產品需求也有望增加。

金起台表示,今年旗下 HBM 已全數售罄。 雖然 2024 年才剛開始,但公司為了維持市場領先地位,已開始為 2025 年準備。


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