荷蘭政府周五 (6 日) 發布新的出口管制規定，以國家安全風險為由，擴大 ASML 的出口限制。
根據將於 9 月 7 日生效的新規定，ASML 現在需要向荷蘭政府而不是美國政府申請出口許可證，才能向中國出口其舊型號的深紫外光微影 (DUV) 系統。
ASML 是全球唯一生產尖端光刻機 (曝光機) 的生產商，這些光刻機用於生產從電動車到軍事裝備等各種用途，所需要的高階晶片。
荷蘭政府本已限制 ASML 向中國出口更先進的設備，新措施將影響 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i DUV 系統的出口，這些產品也受到華盛頓的限制。
荷蘭外貿部長 Reinette Klever 周五在 X 上發文稱，最先進的 ASML 機器可以製造用於先進軍事應用的晶片，但出於國家安全考慮，只有獲得許可才能出口。
她補充說，由於技術發展正快速進步，現在即使是較舊的機器，也能生產先進晶片，這就是管制擴大的原因。
ASML 發言人 Monique Mols 在一份電子郵件聲明中表示，「由於這是技術性變化，因此預計這一公告不會對我們 2024 年的財務前景，或我們在 2022 年 11 月投資者日傳達的長期情景產生任何影響。」
