據美國媒體《The Information》周一（27 日）報導，中國已開始生產自研浸潤式深紫外光曝光機（DUV），這種晶片製造關鍵設備長期由荷蘭供應商 ASML 主導。
據《The Information》等外媒報導，一家位於上海、獲中國政府支持的企業，已開始生產自主研發的 DUV 曝光機，相關團隊納入宇量昇科技等新創公司人員。
消息人士稱，中國 DUV 主要使用國產零件，但部分關鍵零件仍來自日本，且性能和製造品質仍不如 ASML 產品。
按照規畫，該公司今年將生產 5 台 DUV 設備，明年把產量提高至 20 台。
知情人士透露，預計這些 DUV 設備將於今年交付中國主要晶片製造商，包括中芯國際 (00981-HK) 、華虹半導體及長鑫存儲。
美銀證券分析師 Didier Scemama 認為，中國本土設備目前對 ASML 構成的威脅仍然有限。即使中國明年成功生產 20 台國產 DUV 設備，對 ASML 銷售額造成的影響約 14 億歐元，僅占 ASML 預估整體營收 2.4%。
摩根大通分析師 Sandeep Deshpande 表示，中國少量製造 DUV 設備，與在晶圓廠支援大規模量產，代表兩種截然不同的能力。中國設備能否形成實質競爭，仍須檢視良率、套刻精度與產能效率，以及經歷數千批晶圓生產後的可靠度。
美國早已禁止 ASML 對華出售 EUV 曝光機，中國晶圓廠僅能採購老舊 DUV 維持生產。
如今美國國會審議《匹配法案》，計劃進一步收緊 DUV 設備出口限制，禁止 ASML 為中國工廠提供設備維修、備件配套服務，中國產線面臨設備停擺風險。
